規格：15ML
Luvos Heilerde清潔修復去角質面膜
含有由純天然的二合一活性成分複合物製成。 含有寶貴的礦物質和微量元素，杏仁外皮和滋養桃仁油，溫和地去除死皮細胞和角質。 清潔剝離面膜可去除皮膚上多餘的皮脂、沉積物和污垢顆粒。 它清潔和澄清毛孔深處。 經常使用，有助於打造柔軟、紅潤、均勻的膚色，並防止由瑕疵引起的炎症。
- 為顯著柔軟，純淨和光滑的皮膚
- 清潔毛孔深處，清除並防止刺激
- 輕輕去角質
- 細緻地撫平和提亮膚色
成份：水、山梨糖醇、酒精、辛酸/癸酸甘油三酯、黃土、甘油、鯨蠟硬脂醇、西洋參（荷荷巴油）籽油*、檸檬酸硬脂酸甘油酯、硬脂酸甘油酯、KETRUN、硬脂酸甘油酯、丙二醇、聚乙二醇修剪後的 APILOWIDERAC、酮基硬脂酸酯）鎂矽酸鋁、黃原膠、生育酚、麥芽糊精、向日葵（向日葵）籽油、白柳（Willow）樹皮提取物、氫氧化鈉、過氧化氫**、GEROLS *、香茅醇 **、香茅醇 **) **、CI 77891（二氧化鈦）、CI 77491（氧化鐵）、CI 77492（氫氧化鐵）、CI 77499（氧化鐵）
皮膚類型：所有皮膚類型
產品特點：
- 特別適合面部
- 不含防腐劑
- 不含石蠟/礦物油
- 純素
